炭化ケイ素セラミックの材料開発

本年、2019年7月に案内しました、「炭化ケイ素」の射出成型用材料の開発が概ね完了しました。
もう少し成形性の改良など修正する部分もありますが、順次お客様に案内を開始します。

「炭化ケイ素」は2,000℃以上の不活性ガス雰囲気中で焼結を行うC-Siの共有結合結晶で、ダイヤモンドとシリコンの中間的性質を持ち、硬度、耐熱性、化学的安定性が非常に優れている材料で、セラミックでは珍しい半導体の性質も持ち合わせています。
高い硬度を活かした工作機器のシールリングや釣り具のヤーンガイドなどの耐摩耗部品、高い耐熱性を活かした熱処理装置周りの部品、高温下で利用できる半導体部品などにご利用いただけます。

今回開発した射出成型用材料を利用することにより、より複雑な形状が射出成型で得られますので、部品デザインの自由度が高くなります。
また、射出用金型を多数個取りにすることで、量産性の向上や生産コストの抑制が期待できます。

末筆ですが、開発に関係した皆様にお礼申し上げます。

専務取締役　唐木秀行